Моделирование UHV/CVD-процесса и роста кремния на подложке

Brianne Costa 25/05/2015

Химическое осаждение из газовой фазы (сhemical vapor deposition — CVD) является востребованной технологией в мире микроэлектроники и полупроводниковой промышленности из-за ее способности получать высококачественные, особо чистые, и чрезвычайно прочные материалы. Сверхвысоковакуумная технология CVD (ultra-high vacuum — UHV/CVD) требует использования сложного оборудования и очень высоких температур. С целью повышения эффективности и сокращения затрат на дорогостоящие эксперименты, инженеры занимаются моделированием этого сложного процесса. В данной статье, мы рассмотрим, в качестве примера, выращивание кремниевых подложек.

Читать дальше

Daniel Smith 02/05/2013

Графен может быть получен путем термического разложения в высоком вакууме. Для разработки и оптимизации высоковакуумных систем инженеры могли бы использовать возможности численного моделирования, но, к сожалению, сегодня не так много программных комплексов способны справиться с этой задачей. Давайте поговорим о том, какое отношение вакуумные системы имеют к получению графена, а также обсудим, как и зачем их моделировать.

Читать дальше


Темы публикаций


Теги